電子材料市場研究機構TECHCET最新數據顯示,，光刻膠市場預計將在2024年反彈,，同比增長7%，市場規(guī)模達到25.7億美元,；2022-2027年間復合年增長率為4.1%,。
TECHCET指出，受先進邏輯工藝與存儲器等新技術驅動,，增長最快的細分領域為EUV和KrF光刻膠,。此外，用于成熟制程（如i,、g和KrF/248nm）的光刻膠材料也將繼續(xù)推動市場增長,。隨著三星、臺積電和英特爾等公司的部分工藝制程從ArF和ArFi轉向ArFi和EUV組合,，預計美光和SK海力士也將緊隨其后,，EUV光刻膠產量不斷爬升。
負性EUV光刻膠的使用增加也在推動新的變化,，例如負性溶劑的開發(fā),，以及光刻膠涂布之前的晶圓預濕潤等等，同時這類光刻膠的增長預計將會減少水溶液顯影劑和邊膠清洗的使用,。
晶圓廠擴建和日韓貿易糾紛的引起的出口限制也促進了一些小型光刻膠廠商在當地市場站穩(wěn)腳跟,。例如日本對韓國的光刻膠出口限制（雖已取消），以及中國為了把控地緣政治引發(fā)的斷供風險而推進國產化等因素,，都推動了中國大陸和臺灣,，以及韓國當地材料供應商的本土化進程。
