一般情況,，在減反膜中，這是膜弱的主要原因,。由于基片表面在光學(xué)冷加工及清洗過程中不可避免地會有一些有害雜質(zhì)附著在表面上,，而基片的表面由于光學(xué)冷加工的作用，總有一些破壞層,，深入在破壞層的雜質(zhì)(如水汽,、油汽、清洗液,、擦拭液,、拋光粉等，其中水汽為主要),，很難以用一般的方法去除干凈，特別對于親水性好,，吸附力強(qiáng)的基片尤其如此,。當(dāng)膜料分子堆積在這些雜質(zhì)上時，就影響了膜層的附著,，也就影響了膜強(qiáng)度,。此外，如果基片的親水性差,、吸附力差,，對膜層的吸附也差，同樣會影響膜強(qiáng)度,。硝材化學(xué)穩(wěn)定性差,，基片在前加工過程中流轉(zhuǎn)過程中，表面已經(jīng)受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層(也許是局部的,、極薄的)。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差,，膜牢固度不良。基片表面有臟污,、油斑,、灰點(diǎn),、口水點(diǎn)等,，局部膜層附著不良，造成局部膜牢固度不良,。- 加強(qiáng)去油去污處理，如果是超聲波清洗,，應(yīng)重點(diǎn)考慮去油功能，并保證去油溶液的有效性,；若是手擦,，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦,。
- 加強(qiáng)鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達(dá)到300℃以上更好,，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水汽,、油汽揮發(fā),。*注意：溫度較高，基片吸附能力加大,，也容易吸附灰塵,。所以，真空室的潔凈度要提高,。否則基片在鍍前就有灰塵附著,，除產(chǎn)生其它不良外，對膜強(qiáng)度也有影響,。(真空中基片上水汽的化學(xué)解吸溫度在260℃以上),。但不是所有的零件都需要高溫烘烤，有的硝材溫度高了反而膜強(qiáng)度不高還會有色斑產(chǎn)生。這與應(yīng)力以及材料熱匹配有較大的關(guān)系,。
- 有條件時,，機(jī)組安裝冷凝機(jī)(PLOYCOLD)，除提高機(jī)組真空抽速外,，還可以幫助基片水汽,、油氣去除。
- 提高蒸鍍真空度,，對于1米以上的鍍膜機(jī),，蒸鍍啟動真空應(yīng)高于3*10-3Pa，鍍膜機(jī)越大,，蒸鍍啟動真空更高,。
- 有條件時，機(jī)組安裝離子源,，鍍前轟擊,，清潔基片表面，鍍膜過程輔助,，有利于膜層的密實(shí)牢固,。
- 膜料的去潮，將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥,。
- 保持工作環(huán)境的干燥(包括鏡片擦拭,、上傘工作區(qū))，清潔工作環(huán)境時不能帶入過多的水汽,。
- 對于多層膜,，在膜系設(shè)計時，就要考慮第一層膜與基片的匹配,，盡可能考慮用Al2O3膜料,，該膜料對大部分基片有較好的吸附力。對于金屬膜,，也可考慮第一層鍍Cr或Cr合金,。Cr或Cr合金對基片也有較好的吸附力。
- 采取研磨液(拋光液)復(fù)新去除鏡片表面的腐蝕層(水解層)
- 有時候適當(dāng)降低蒸發(fā)速率對膜強(qiáng)度的提高有幫助,，對提高膜表面的光滑度有積極意義,。
薄膜的成膜過程，是一個物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過程,，不可避免地在成膜后的膜層中會有應(yīng)力存在,，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的,，有的是張應(yīng)力,、有的是壓應(yīng)力,，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。應(yīng)力的存在對膜強(qiáng)度是有害的,，輕者是膜層耐不住摩擦,，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細(xì)道子,。對于減反膜,，由于層數(shù)不多，應(yīng)力一般體現(xiàn)不明顯,，(但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應(yīng)力問題存在,。)而層數(shù)較多的高反膜、濾光膜,，應(yīng)力是一個常見的不良因素,，應(yīng)特別注意。A. 鍍后烘烤,，最后一層膜鍍完后,，烘烤不要馬上停止，延續(xù) 10分鐘“回火”,。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定,。- 降溫時間適當(dāng)延長，退火時效,。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應(yīng)力,。
- 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中,，基片溫度不宜過高,，高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對氧化鈦,、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩(wěn)定性有負(fù)面作用。
- 選擇合適的膜系匹配，第一層膜料與基片的匹配,。(如五層減反膜采用Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2;ZrO2也可以采用SV-5(一種ZrO2 TiO2混和膜料)或其他混合高折射率膜料,。
- 適當(dāng)減小蒸發(fā)速率(Al2O3-2.5A/S;ZrO2-3A/S;MgF2-6A/S參考速率)
B. 對氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍，根據(jù)不同膜料控制氧進(jìn)氣量,。C. 外層膜表面硬度：減反膜一般外層選用MgF2,，該膜層剖面是較松散的柱狀結(jié)構(gòu)，表面硬度不高,，容易擦拭出道子,。- 膜系設(shè)計允許時，外層加10nm左右的SiO2層，二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅表面耐磨度,、硬度不如氟化鎂),。鍍后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好,。(但表面會變粗)
- 鏡片出真空室后,，放置在較干燥潔凈的地方，防治快速吸潮,， 表面硬度降低,。
D. 其它造成膜強(qiáng)度不良的原因還有，真空度過低(在手動控制的機(jī)臺容易發(fā)生),、真空室臟,、基片加熱不到位。輔助氣體充入時,，膜料也在放氣致使真空度降低,，使分子自由程減少，膜層不牢,。所以輔助氣體的充入要考慮膜料的放氣,，鍍前對膜料充分預(yù)熔充分放氣，也可以避免由于蒸鍍中膜料放氣造成真空度過度下降,，從而影響膜強(qiáng)度,。E. 脫膜這里的脫膜雖然也是膜弱的一種，但與前述的脫膜有一些區(qū)別,，主要特征為：點(diǎn)狀脫膜,、邊緣脫膜、局部脫膜,。主要原因是膜內(nèi)有臟或污染物所造成的,。改善方法：提高基片的潔凈度。膜料點(diǎn)不良也是鍍膜產(chǎn)品的一個常見問題,，在日企,、臺企把膜料點(diǎn)稱為“斑孔”顧名思義，膜料點(diǎn)就是蒸鍍中,，大顆粒膜料點(diǎn)隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面,，在基片表面形成點(diǎn)狀的突起，有時是個別點(diǎn),，嚴(yán)重時是成片的細(xì)點(diǎn),，大顆粒點(diǎn)甚至可以打傷基片表面。各種膜料的蒸發(fā)特性是不一樣的,，特別是熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度有很大差異,。熔點(diǎn)溫度大于蒸發(fā)溫度的材料,，由固態(tài)直接氣化蒸發(fā)，是升華材料;熔點(diǎn)溫度小于蒸發(fā)溫度的材料,，由固態(tài)先化成液態(tài)爾后在轉(zhuǎn)換成氣態(tài)蒸發(fā),，是非升華材料;熔點(diǎn)溫度與蒸發(fā)溫度相當(dāng)?shù)牟牧希晒虘B(tài)到氣態(tài)蒸發(fā),，邊融化邊蒸發(fā),。是半升華材料。其中非升華材料最容易產(chǎn)生膜料點(diǎn),，因?yàn)橐簯B(tài)的膜料繼續(xù)加熱會沸騰,，沸騰中膜料中的氣泡溢出，飛濺膜料點(diǎn)的可能性加大,。有時在材料預(yù)熔時就有很大的飛濺,。膜料受潮，預(yù)熔或蒸鍍時水汽逸出,，也會造成飛濺產(chǎn)生,。- 精心預(yù)熔，MgF2務(wù)必熔透一次蒸鍍所需膜料,，而Ta2O5 和TiO2必須徹底熔透,。
- 用一把電子槍鍍制幾種膜料時，防治坩堝轉(zhuǎn)動中膜料參雜及擋板掉下 膜料渣造成膜料污染,。一旦發(fā)現(xiàn)坩堝膜料有污染,，應(yīng)立即更換。
- 盡最大可能使蒸發(fā)舟,、坩堝干凈,。(勤打掃)。
- 選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑,。特別是非升華材料,，蒸發(fā)速率不宜高。
- 膜料去潮,，將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥注意：有時膜層內(nèi)有一些細(xì)小的點(diǎn)子,，有可能不是膜料點(diǎn)，而是灰塵點(diǎn),，處理的方法與膜料點(diǎn)不良是不同的,，應(yīng)嚴(yán)格區(qū)分,，分別處理,。
膜色差異有二種(不包含色斑)，一種是整罩上,、中,、下膜色不一致,，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致,。- 上中下膜色不一致稱為整傘(罩)均勻性不好,，也稱有傘差。主要產(chǎn)生原因是均勻性修正板(補(bǔ)正板)有問題,。
- 傘片變形,。也是膜色不勻的原因之一，特別是使用了較久的傘片,，以往是均勻的,，慢慢變得不均勻了，傘片變形就可能是主要原因了,。
- 膜料狀況的不一致,，特別是升華和半升華膜料被打偏，挖坑等也會嚴(yán)重影響整罩和單片的均勻性,。特別是有大量手工預(yù)熔時,，各人的操作手法不一，得到的料況也會不一,。改善思路：充分采用修正板的功能,。
- 調(diào)整修正板，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容,，如果有二個蒸發(fā)源,，可能的條件下，獨(dú)立使用各自的修正板,，避免干擾,。
- 傘片整形,，對傘片整形可以先加工一個R基模(選擇強(qiáng)度較高的原材料)，在基模上對傘片整形,。為防止減少傘片變形,，在傘片訂購時對傘片的厚度、原材料選擇要合適,。
- 加強(qiáng)傘片管理,，特別是擺放時的管理，防止因擺放不當(dāng)而變形,。
- 改善膜料狀況,，特別是電子槍蒸鍍升華、半升華材料時,，不能把膜料打塌,，挖坑,。
- 能夠自動預(yù)熔的膜料，盡量自動預(yù)熔,，減少人為因素影響,。
- 修正板對物理膜厚的修正很有效，但對折射率的修正是力不從心的,，所以完全靠修正板解決分光均勻性,，是很困難的。
- 如果一個修正板要對應(yīng)二把電子槍(蒸發(fā)源),、以及多種膜料,，就會有較大的困難。
主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,，與傘片曲率差異較大,，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大,。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋,、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題,。改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。- 根據(jù)傘片孔位分布,，基片形狀,，制作專門的鋸齒形修正板；
- 如果有可能,，把蒸發(fā)源往真空室中間移動,，也可改善單片的膜色均勻性；
- 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋㈦ 清潔鏡圈(碟片)㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。
顧名思義,，膜層有臟,。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟可以包括：灰塵點(diǎn),、白霧,、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等,。(灰塵點(diǎn)和白霧單列)改善思路：檢討過程，杜絕臟污染,。備注：本文來源于真空行業(yè)知識圈,，一切文章著作權(quán)歸原作者所有，轉(zhuǎn)載只為行業(yè)學(xué)習(xí)及交流,，如有不妥可留言聯(lián)系小編修改或刪除,，如有轉(zhuǎn)載請注明出處。有材有料/模切之家/涂布之家作為B2B2綜合服務(wù)型平臺,，服務(wù)涵蓋全球：手機(jī)數(shù)碼,、智能家居、汽車出行,、能源動力,、醫(yī)療衛(wèi)生、印刷包裝等領(lǐng)域的設(shè)備,、材料,、加工廠、輔料,、模具等大小過30000家相關(guān)企業(yè),，服務(wù)相關(guān)行業(yè)從業(yè)人員100萬人以上。平臺為產(chǎn)業(yè)鏈提供一站式服務(wù),，業(yè)務(wù)范圍涵蓋：供應(yīng)鏈信息服務(wù),、供應(yīng)鏈金融服務(wù)、庫存電商平臺,、ERP管理軟件,、模切人才培訓(xùn)、產(chǎn)學(xué)研合作平臺,，投融資服務(wù),，宣傳推廣綜合服務(wù)。
